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出典: くみこみックス

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低誘電率膜【Low Dielectric Constant Insulator】 <br> <br> 　LSI多層配線間を電気的に分離する絶縁膜が，低誘電率の材料で作られているもの．LSIの高速化にともなって，配線抵抗や配線容量の低減が要求されている．銅配線が配線抵抗を低減するのに対して，低誘電率の層間絶縁膜は配線容量の低減に寄与する． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> == 関連項目 == * [[銅配線]] * [[配線容量]] [[Category:組み込み技術全般|テイユウテンリツマク]] [[Category:LSI|テイユウテンリツマク]]

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