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出典: くみこみックス

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ペリクル【Pellicle】 <br> <br> 　フォトマスク表面へのごみ付着防止の目的で，マスクの表面から数ミリ離して置いた，ごく薄い保護膜．ペリクル表面に付着したごみでも，ある程度の大きさまでは，ウェハ上に結像しない．マスク洗浄回数の減少やスループットの向上など，マスク寿命の延長に役立つ．材質は一般にニトロ・セルロース薄膜が使われている． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> [[Category:組み込み技術全般|ヘリクル]] [[Category:LSI|ヘリクル]]

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