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トレンチ・キャパシタ
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トレンチ・キャパシタ【Trench Capacitor】 <br> <br> DRAMメモリ・セルに用いるキャパシタ.シリコン基板中に溝を形成し,単位あたりのキャパシタ面積を大きくとれるように工夫した構造.4M~16Mビットの時代は,スタック・キャパシタとともに各社が採用していたが,64Mビット以降の超微細化構造では製造が困難であるため,DRAMメモリ・セルはスタックト・キャパシタ型が支配的になっている. <br> <br> <br> <center> [[画像:lsi_f57.gif]]<br> <br> '''図 トレンチ・キャパシタ・セルの例(断面図)''' </center> <br> <br> 【出典】西久保 靖彦;基本システムLSI用語辞典,CQ出版社,2000年5月. <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> == 関連項目 == * [[スタックト・キャパシタ]] [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]
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