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ステッパ【Wafer Stepper】
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　LSI製造のためのステップ&リピート機構つき露光装置．
　従来の露光装置がフォトマスクに1対1対応したパターンを焼き付けるのに対して，ステッパは縮小投影しながらウェハ全面にステップ&リピート機構を用いて焼き付ける．レンズ縮小率が5倍の場合，フォトマスク寸法1μmによってウェハ上の0.2μmを焼き付けることができ，微細パターンの形成においてその効果は大きい．
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[[画像:lsi_f38.gif]]<br>
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'''図　ステッパ光源と波長'''
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【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月．
<!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 -->
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== 関連項目 ==
* [[フォトマスク]]

[[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]