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出典: くみこみックス

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プロセス・シミュレーション【Process Simulation】 <br> <br> 　ウェハ・プロセス技術に関与するところで，LSI製造条件を決定する際に用いる．熱工程やイオン打ち込み条件などを入力データとして，不純物濃度分布の予測やイオン注入条件などの最適化を行う．レジスト形状や仕上がり断面形状の予測などは，とくに形状シミュレーション，あるいはエッチング・シミュレーションと呼ぶ． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <!-- 【著作権者】西久保 靖彦氏 --> <br> <br> [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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