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出典: くみこみックス

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OPC（Optical Pattern Correction） <br> <br> 　ウェハに投影されたパターンが，光近接効果によって変形することを想定して，あらかじめマスク・パターンに施しておく補正．位相シフト・マスクとともに微細化露光のための重要なマスク技術を担っている． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <br> <br> == 関連項目 == * [[位相シフト・マスク]] [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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