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出典: くみこみックス

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フォトエッチング【Photoetching】 <br> <br> 　LSI製造工程で，フォトレジスト現像後，レジスト・パターンにより形成された酸化膜などのマスキングによって，シリコン，アルミ配線などを食刻して除去し，所望のパターンを形成すること． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <br> <br> == 関連項目 == * [[フォトリソグラフィ]] [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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