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出典: くみこみックス

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スパッタ【Sputtering】 <br> <br> 　プラズマ中の正イオン（Ar+など）を加速し，膜形成すべき物質からなるターゲット材料に衝突させ，ターゲットから飛び出した物質をシリコン・ウェハなどの半導体基板に蒸着させて薄膜を形成する工程．PVD（物理的気相成長）の一つ． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <br> <br> == 関連項目 == * [[蒸着]] [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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