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出典: くみこみックス

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ステッパ【Wafer Stepper】 <br> <br> 　LSI製造のためのステップ&リピート機構つき露光装置． 　従来の露光装置がフォトマスクに1対1対応したパターンを焼き付けるのに対して，ステッパは縮小投影しながらウェハ全面にステップ&リピート機構を用いて焼き付ける．レンズ縮小率が5倍の場合，フォトマスク寸法1μmによってウェハ上の0.2μmを焼き付けることができ，微細パターンの形成においてその効果は大きい． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <br> <br> == 関連項目 == * [[フォトマスク]] [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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