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出典: くみこみックス

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蒸着【Evaporation】 <br> <br> 　シリコン・ウェハなどの半導体基板上に，形成すべき膜材料を熱によって蒸発させて，堆積（付着）する方法．化学反応を用いないことから，物理的気相成長（PVD）とも呼ばれる． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <br> <br> [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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