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出典: くみこみックス

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エキシマ・レーザ・ステッパ【Excimer Laser Stepper】 <br> <br> 　KrFエキシマ・レーザ（波長0.248μm）を用いたウェハ・ステッパ．従来の光方式ステッパと比較して，一段と微細な露光が可能であり，0.25μmプロセス以降の主力方式となっている．従来の光を用いたステッパ光源は，0.8μm時代がg線（波長は0.435μm），0.5μm時代がi線（0.365μm）であった．今後は，さらに短波長のArF（0.193μm）レーザ，F2（0.157μm）レーザが用いられる． <br> <br> 【出典】西久保 靖彦；基本システムLSI用語辞典，CQ出版社，2000年5月． <br> <br> == 関連項目 == * [[ステッパ]] [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:LSI]]

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