ソースを表示

出典: くみこみックス

以下に示された理由により ページの編集 を行うことができません:

以下にソースを表示しています:

フォトマスク 【Photo-mask】 　LSIやディスプレイの回路パターンを形成した原版をフォトマスクと呼びます．これは透明なガラス基板上にクロムなどの光を通さない素材でパターンを形成したもので，半導体露光装置によって写真のネガ・フィルムのようにシリコン・ウェハ上に設計パターンを転写します．シリコン・ウェハにはフォトレジストと呼ばれる感光剤が塗布され，フォトマスク露光装置によってパターンが描画されます． <br> <br> 【出典】（株）アルティマ 技術統括部 一同，下馬場 朋禄，山際 伸一，横溝 憲治；システム開発者のためのFPGA用語集，Design Wave Magazine 2008年12月号 別冊付録，CQ出版社，2008年12月． <!-- 【著作権者】○○ ○○氏 --> <br> <br> [[Category:組み込み技術全般]] [[Category:FPGA]]

フォトマスク に戻る。